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最新微創技術——低溫等離子消融新技術

發布日期:2012-02-29    點擊:

供稿:宣傳策劃科 云 莉  核稿:周 秦  發布日期:2012年2月29日

    近日,我院耳鼻喉科一病區引進治療新理念:最新微創技術—低溫等離子消融新技術,微創2mm針孔,低溫40-70、安全無電磁波污染。

    主要用于:鼻甲肥大、軟腭增生、舌根肥大、咽后壁濾泡增生及乳頭狀瘤、慢性鼻炎、過敏性鼻炎、鼻出血、扁桃體肥大、鼾癥治療等。

    其特點是:一、微創傷。深層組織健康,創口表面所受損傷較小。二、高精確性。等離子體薄層內被加速的離子的作用范圍極短,僅為100微米,因而消融作用被精確控制在與射頻點擊接觸的組織表層,對深層組織沒有影響。三、高安全性。采用專利三級技術,電場僅存在于電極的三級之間,而不深入病人體內;06級能量精確控制,防治損傷神經系統;將熱損傷降至最低,使舌根部不再是禁區;對粘膜表層損傷極小,可保持其正常生理功能;熱損傷程度極輕微,組織無炭化,創口平整;術中基本無出血,僅有輕微不適感;操作簡便,手術可在門診進行。四、工作效率高。BTS--1000鼾癥治療儀—低溫等離子消融技術:打孔時間約1015秒,其他方法:13分鐘。五、術后恢復快。BTS--1000鼾癥治療儀—低溫等離子消融技術:創面紅斑完全消失1個月,術后疼痛輕微、恢復快,疼痛感3天之內消失,1周內傷口完全愈合,46周達到最好的收縮效果。其他方法,創面紅斑完全消失約3個月,術后疼痛強烈。